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甲i醇灌區(qū)到底設置可燃還是有*體*？
甲i醇如果以可燃氣體對待，氧氣廠家，爆i炸下限5.5%（v/v），氧氣批發(fā)，報警值設置為25 lel%，換算為體積分數(shù)5.5%*25%=1.375%=13750ppm，遠高于*報警上限35ppm。所以甲i醇應該設置有*體*來檢測。
按照“同一種氣體，既屬可燃氣體又屬有*體時，應只設置有*體檢（探）測器”原則，應首先考慮有*體檢測報警。
但在實際工作中，如何選擇還需要結合現(xiàn)場實際情況。對于存在跑冒滴漏的一般工廠區(qū)域，有*體檢測報警值低，略有泄漏即報警，氧氣多少錢，天天都是“狼來了”，為不影響生產，操作人員索性關閉報警，則帶來更大的隱患。因此，只有泄漏量控制好了，ppm報警i方能凸顯其作用。
按照gbz/t 233有*體的設置原則4.1.1 “高毒/劇i*體必設”無爭議，其它有*體是“大量泄放/易于聚集”的場合。建議結合場所條件、氣象條件、操作人員的操作方式、巡檢頻次等，來綜合評估風險程度。敞開式、通風條件好的場所按可燃設置是適宜的，而室內、封閉半封閉等泄漏氣體不易擴散及人員出入頻繁的場所，則應設為*。操作人員采樣、巡檢時應配備便攜式有*體檢測*。
所以，具體問題具體分析，蕪湖氧氣，不管是可燃還是*，結合現(xiàn)場實際情況來合理安裝。
高純/*氣體的概念
半導體集成電路制造所需要的高純氣體主要分為兩大類：
1.普通氣體：也叫大宗氣體，主要有：h2 、n2 、o2 、ar 、he等。
2.*氣體：主要指各種摻雜用氣體、外延用氣體、離子注入用氣體、刻蝕用氣體等。
半導體制造用氣體按照使用時的危險性分類：
1.可燃、助燃、易然易暴氣體：h2 、ch4、h2s、nh3 、sih4、ph3 、b2h6、sih2cl3、clf3、sihcl3等
2.有*體：ash3、ph3 、b2h6等
3.助燃氣體：o2 、n2o、f2 、hf等
4.窒息性氣體：n2 、he 、co2、ar等
5.腐蝕性氣體：hcl 、pcl3 、pocl3 、hf、sif4、clf3等
工業(yè)氣體是指氧、氮、*、氙、氫、二氧化碳、乙i炔、天然1氣等。
氣體工業(yè)名詞術語（標準氣體、高純氣體、*氣體）
1、 *氣體：指那些在特定領域中應用的， 對氣體有特殊要求的純氣、高純氣或由高純單質氣體配制的二元或多元混合氣。
2、 標準氣體：標準氣體屬于標準物質。
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